 | | High Temperature Vacuum Oven for Semiconductor industry IVO-2000S
용도 |
제품특징
- 8채널 정밀한 온도 제어(선반별 제어 기능 포함)
- 진공 유지 설정 후 자동 VENT 기능
- 질소 가스 및 AIR 공급 수동 밸브 포함
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제품사양 (Specification)
| Model | VO-2000S |
| Chamber Volume | 2000L |
| Heater Power (kW) | 34kW |
| Temperature | Range | 40~400℃ |
| Control | 0.1℃ |
| Accuracy | ±2℃ at 100℃ |
| Sensor | K-type |
| Stability | ±1.0℃ |
| Heat up Time | 5℃ per 30 mins (empty) |
| Vacuum | Range | 0~760 Torr Digital type |
| Degree | About 0.1 Torr |
| Material | Interior | Stainless Steel |
| Exterior | Steel, 1.2t, double painted & baked |
| Heater | SUS Pipe Heater |
| Heating Method | SUS Sheath Heater |
| Shelf | 2 |
| Dimension (W x D x H, mm) | Internal | 1000 x 2000 x 1000 |
| External | 1680 x 2310 x 1800 |
| Power | 380V / 3P/ 60Hz |
| Weight (kg) | About 500kg |
*진공도 범위 옵션 : 10-^3Torr 이상도 가능합니다.
High Temperature Vacuum Oven for Semiconductor industry
IVO-2000S
용도
제품특징
제품사양 (Specification)
*진공도 범위 옵션 : 10-^3Torr 이상도 가능합니다.