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반도체용 장비
중형 Autoclave
Autoclave For semiconductor industry
IR-PC-700
용도
반도체 공정용
제품사양
Model
IR-DPC-700 (Dual Chamber)
Heating Method
Convection
Dimension
(mm)
Internal
W560 × D650 × H405
External
W1400 × D2060 × H1590
Process Chamber Material
SUS304 Polishing
Temperature Control Method
Programmable PID Control
Thermocouple Type
K-Type
Temp Uniformity
Set temp. ±3℃ at 60℃ (Design Temp : 230℃)
Chamber working pressure
16 kgf/㎠ (Max 22 kgf/㎠)
Pressurizing method
Provided by CDA & Booster
Pressure Control
Increase / Decrease: Valve (segments) control
Heater
Sheath Pin Heater
Air circulating method
Sirocco Fan + Motor
Motor Shaft Sealing
Magnetic Driver Seal
투챔버 Autoclave
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용도
반도체 공정용제품사양
(mm)